好消息，上海微电子将在2021年交付首台国产28nm光刻机

好消息是上海微电子将在2021年交付首台国产28nm光刻机，可以进一步缩小与ASML的差距。

28nm基站够用了，好像多重曝光可以做14nm，xx有救了

加个宵夜 iOS fly ~

回复2#crazymove

任总埋单

可以的，正在讨论要不要投一点

钱多的是，不够可以印，就是张纸嘛

有链接吗？

最近打算支持一下国产内存，国外牌子太狗了整天欺负人，整天火烧地震，国产内存一出来就降价了，真他妈巧啊。 iOS fly ~

(⊙o⊙)哇，好消息呀

能搞到7nm那就厉害了

便宜三块送一个马甲小尾巴~

不大相信28nm的光刻机能做到不是用美国技术

还有很多制作的原材料呢，很多是美国产品，完全自主不容易

占领华盛顿一劳永逸 iOS fly ~

用的还是沉浸式技术，只提线宽不能应用于量产是耍流氓。 iOS fly ~

回复9#jojoant
那要看发改委脸色 iOS fly ~

回复6#ekson

没有正规信息来源，都是推测的。

上海微电子集团的新一代28nm光刻机预计将在今年完成，如果顺利可望在明年导入产线试产，因为其承担的国家科技重大专项02专项在“十三五”期间的标志性项目“28nm(纳米)节点浸没式分步重复投影光刻机研发成功并实现产业化”，而2020年是十三五的最后一年。

等2021年28nm光刻机如果能顺利试产，将在2021年底或者2022年实现量产。

生产企业上黑名单，会有被断供美国技术的类似待遇。

乱想到韩国都被日本掐了脖子，不知我国是否能突破。 iOS fly ~

个人的文章，看起来是业内人士，提前报料，对比正式新闻，时间点说错了说今年，但是内容更详细
https://user.guancha.cn/main/content?id=298547
国产深紫外浸入式光刻机（DUV）在今年就要下线了,其中：

1． 由上海微电子负责总体集成，超精密光栅系统来自中国科学院上海光学精密机械研究所。

2． 光刻机物镜组来自北京国望光学。

3． 光源来自科益虹源。

4． 浸液系统来自浙江启尔机电。

5． 双工件台来自华卓精科。

这个光刻机的套刻精度为4纳米，可以适用于11纳米曝光。由双工件台技术指标可以得知这个光刻机每小时可以曝光160—180片12英寸晶片。

加油:muscle: iOS fly ~

没量产验证，没啥用 iOS fly ~

里面有美国技术吗?

慢慢搞吧

厉害，有了第一步，就有后面的第二步、第三步。。。
大家不要太心急，给产业链和市场一点时间。
记得之前看帖子哪个兄弟说过国家在光刻机核心部件的研发是有布局的

回复26#zsdicky
看观察者的文章，貌似核心的都是国产的了。 iOS fly ~

A股代码？ iOS fly

回复23#Haisea

能弄出来再说吧，这年头啥玩意都说能弄出来，正儿八经用的时候，都抓瞎
骗钱的太多HiPDA·NG

回复7#你当我是树洞吧


恩，我就算没需求都想买两根国产条子放着了

我觉得吧，也别神话阿斯麦，这种工业端的设备，工程化能力强一些，资金技术人力密集投入情况下，加上市场化及非市场手段，按时间表搞出来是没疑问的。

不计成本应该可以搞出来。
国之重器还算啥成本呢？

不容易啊，得有几年困难期了。

问题是90nm的都还没见谁用过啊.....小尾巴~

回复36#lonee

感觉是十几年或者更久

怪不得张江高科连涨十几天了

回复38#docto
估计没有应用，当你造出来的时候，国外厂家就降价。除非国家强制要求，但这个要求也只能对国有企业 iOS fly ~

回复7#你当我是树洞吧

减轻了救火队的压力

回复20#金总
远程口头制裁，抗议 iOS fly ~

张江高科是房地产公司

他有上海微电子10%的股份

只要有需求，就会有供给。
之前有美国产品可以用，国内供应商没有供应的动力。

现在美国断供了，恰好是国内供应商发展的契机。

就连EDA软件、光刻机国内都有人搞，别说其他的原料了。

关键在于：有没有人敢用、肯用。以前有美国产品在，国内连想都不敢想。

只要迈开第一步，剩下的问题就是技术问题、钱的问题

回复7#你当我是树洞吧

08年经济危机把奇梦达和尔必达都拖死了，美光也元气大伤，三星和sk凭借本集团血厚恢复快，占领了之后的dram市场高地，价格还不随意弄还更待何时？肯定要把之前打价格战亏得赚回来啊，再加上黄牛的推波助澜，价格过山车就出现了。。。现在也不好说是国产内存的原因，本来也是一个谷底，尤其是非3200频率的内存，amd对高频内存的需求影响太大了

回复47#jinseng
内核都不是安卓的了？那点是安卓系统吗 iOS fly ~